ان کے مختلف استعمال کے مطابق ، ان کو چپ پروڈکشن ، پیکیجنگ ، اور ایل ای ڈی مینوفیکچرنگ کے لئے استعمال ہونے والوں میں تقسیم کیا جاسکتا ہے۔
روشنی کے مختلف ذرائع کے مطابق ، انہیں الٹرا وایلیٹ لائٹ ذرائع (UV) ، گہری الٹرا وایلیٹ لائٹ ذرائع (DUV) ، اور انتہائی الٹرا وایلیٹ لائٹ ذرائع (EUV) میں تقسیم کیا جاسکتا ہے۔ روشنی کے منبع کی طول موج لتھوگرافی مشین کے عمل کو متاثر کرتی ہے۔
انتہائی الٹرا وایلیٹ لتھوگرافی مشین نے مزید طول موج کی روشنی کے کم وسائل فراہم کرنے کے لئے ایک نیا نقطہ نظر اپنایا ہے۔ فی الحال استعمال ہونے والا بنیادی طریقہ یہ ہے کہ لتھوگرافی مشین کے لئے روشنی کے ماخذ کے طور پر ایک ٹن ڈراپلیٹ جنریٹر ، دلچسپ 13.5nm فوٹونز پر ایک ایکسائیمر لیزر کو ختم کرنا ہے۔ ASML اس وقت دنیا کا واحد صنعت کار ہے جو EUV لتھوگرافی کے سازوسامان کو ڈیزائن اور تیار کرنے کی صلاحیت رکھتا ہے۔
مختلف آپریٹنگ طریقوں کے مطابق ، اسے رابطہ لتھوگرافی ، براہ راست تحریری لتھوگرافی ، اور پروجیکشن لتھوگرافی میں تقسیم کیا جاسکتا ہے۔
پرنٹنگ سے رابطہ کریں
پرنٹنگ سے رابطہ کریں
ماسک پلیٹ فوٹوورسٹ پرت کے ساتھ براہ راست رابطے میں ہے۔ بے نقاب پیٹرن کی ریزولوشن ماسک پلیٹ کے پیٹرن کے موازنہ ہے ، اور سامان آسان ہے۔ فورس کو استعمال کرنے کے طریقہ کار کے مطابق ، رابطے کو نرم رابطے ، سخت رابطے اور ویکیوم رابطے میں تقسیم کیا جاسکتا ہے۔
1a. نرم رابطے سے مراد ایک ٹرے پر سبسٹریٹ منسلک کرنے کا عمل ہے (گلو اسپریڈر کے سبسٹریٹ پلیسمنٹ کے طریقہ کار کی طرح) ، جس میں ماسک سبسٹریٹ کو ڈھانپتا ہے۔
1 بی۔ سخت رابطہ ماسک پلیٹ سے رابطہ کرنے کے لئے دباؤ (نائٹروجن) کے تحت سبسٹریٹ کو اوپر کی طرف بڑھانے کا عمل ہے۔
1C. ویکیوم رابطہ ماسک پلیٹ اور سبسٹریٹ کے مابین ہوا نکالنے کا عمل بہتر آسنجن کو یقینی بنانے کے ل. ہے۔
خصوصیات: فوٹوورسٹٹ آلودگی ماسک بورڈ ؛ ماسک پلیٹیں نقصان کا شکار ہیں اور اس کی ایک مختصر عمر (صرف 5 سے 25 استعمال) ہے۔ نقائص جمع کرنے میں آسان ہے۔
قربت لتھوگرافی
قربت پرنٹنگ
ماسک پلیٹ اور فوٹوورسٹسٹ سبسٹریٹ کی نیچے پرت کے درمیان ایک چھوٹا سا خلا (تقریبا 2.5 2.5-25 μ میٹر) ہے۔ یہ فوٹوورسٹسٹ کے ساتھ براہ راست رابطے کی وجہ سے ماسک پلیٹ کو پہنچنے والے نقصان سے مؤثر طریقے سے بچ سکتا ہے ، جس سے ماسک اور فوٹوورسٹسٹ سبسٹریٹ استعمال کے لئے پائیدار بن جاتا ہے۔ ماسک کی لمبی عمر ہے (جس میں 10 بار سے زیادہ اضافہ کیا جاسکتا ہے) اور کم گرافک نقائص۔ جدید فوٹوولیتھوگرافی کے عمل میں قربت کا لتھوگرافی وسیع پیمانے پر استعمال ہوتا ہے۔
