آپ کی پیشہ ورانہ پیمائش اور تجزیہ کا سامان فراہم کنندہ
اچھا - ٹیک ایک پیشہ ور سیمیکمڈکٹر آلات فراہم کنندہ ہے جس میں ایک سرشار فیکٹری اور ایک تجربہ کار تکنیکی ٹیم ہے۔ مستحکم معیار اور ترسیل کو یقینی بنانے کے ل our ہمارے آپریشنز کو معیاری عمل کنٹرول اور کلیدی سیمیکمڈکٹر - متعلقہ سامان سے لیس متعدد پروڈکشن لائنوں کے ذریعہ تائید حاصل ہے۔ کمپنی کو انجینئرز ، تکنیکی ماہرین ، اور پروجیکٹ ماہرین کی ایک ہنر مند ٹیم کی حمایت حاصل ہے جو ٹھوس صنعت کے تجربے کے حامل ہیں ، جس سے سامان سپلائرز اور اختتامی صارفین کے مابین موثر ہم آہنگی کو قابل بنایا جاسکتا ہے۔
-
![وی پی ڈی سسٹم]()
وی پی ڈی سسٹماچھا - ٹیک کا وی پی ڈی سسٹم سیمیکمڈکٹر ٹریس میٹل آلودگی کنٹرول کے لئے بنیادی معائنہ کے آلے کے طور پر کھڑا ہے۔مزید دیکھیں
ہمیں کیوں منتخب کریں
ٹیلرڈ حل کی فراہمی
ہماری تجربہ کار ٹیم انتہائی مناسب سیمیکمڈکٹر آلات سے ملنے اور مختلف پروڈکشن اور آر اینڈ ڈی منظرناموں کے لئے اپنی مرضی کے مطابق حل پیش کرنے کے لئے مؤکلوں کی مخصوص ضروریات کا تجزیہ کرتی ہے۔
جامع تکنیکی مدد
ہم آلات کمیشننگ سے لے کر بحالی تک ، - سائٹ کی خرابیوں کا سراغ لگانے اور اصلی - وقت آن لائن مشاورت ، جس میں آپریشنل پریشانیوں کو کم کرتے ہیں ، مکمل - سائیکل تکنیکی مدد فراہم کرتے ہیں۔
اعلی درجے کے عمل کے لئے مدد
ہم صنعت کی بصیرت میں مستقل طور پر سرمایہ کاری کرتے ہیں اور اعلی - صحت سے متعلق سازوسامان کے حل اور اعلی - ختم چپ کی تیاری کی ضروریات کو پورا کرنے کے لئے اعلی - صحت سے متعلق سازوسامان کے حل اور اپ گریڈنگ خدمات کی پیش کش کرتے ہیں۔
خدمت کے فوائد
سامان کے آپریشن ، پیرامیٹر ایڈجسٹمنٹ ، اور عمل کی اصلاح کے لئے 1V1 آن لائن مدد کی پیش کش کریں ، اپنے سوالات کا فوری جواب دیں۔
سیمیکمڈکٹر مینوفیکچرنگ میں ٹریس میٹل آلودگی کو کنٹرول کرنے کے لئے وی پی ڈی (وانپ فیز سڑن) سسٹم ایک بنیادی پتہ لگانے کا آلہ ہے۔ یہ کیمیائی بخارات کے مرحلے کی سڑن اور اعلی - حساسیت کے بڑے پیمانے پر اسپیکٹومیٹری کا ایک مجموعہ استعمال کرتا ہے جو الٹرا کی عین مطابق کھوج اور نگرانی کو حاصل کرتا ہے - وافر سطحوں پر دھات کی آلودگی کا سراغ لگاتا ہے۔
|
زمرہ |
وی پی ڈی سسٹم |
|
وافر مطابقت |
8 انچ ، 12 انچ (آبائی) ؛ 6 انچ (اختیاری ، سرشار ٹرے کے ذریعے) |
|
پتہ لگانے کی حد (ICP - MS/MS کے ساتھ) |
10⁵-10⁸ ایٹم/سینٹی میٹر ؛ عناصر 7li سے 238u کا احاطہ کرتا ہے |
|
پروسیس ورک فلو |
بخارات کا مرحلہ سڑن → صحت سے متعلق قطرہ اسکیننگ → آلودگی جمع کرنا |
|
مکمل - وافر پروسیسنگ کا وقت |
60 سیکنڈ سے کم یا اس کے برابر (شعاعی فاسٹ - اسکیننگ نوزل) |
|
نمونے لینے کے طریقوں |
مکمل - وافر ، زونل ، کنولر ؛ ایج/بیول ایریا کلیکشن کی حمایت کرتا ہے |
|
سڑن میڈیم |
اعلی - طہارت HF بخارات (قابو پانے کے قابل حراستی اور بہاؤ کی شرح) |
|
ہم آہنگ تجزیہ کے اوزار |
آئی سی پی - ایم ایس ، آئی سی پی - ایم ایس/ایم ایس ، ٹی ایکس آر ایف |
|
آٹومیشن پروٹوکول |
سیکنڈ - منی کی حمایت کرتا ہے۔ خودکار سیمیکمڈکٹر پروڈکشن لائنوں میں مربوط |
|
صنعت کی تعمیل |
نیم معیارات کے مطابق |
|
قابل اطلاق ویفر اقسام |
ننگے ویفرز ، نمونہ دار ویفرز ، موٹی آکسائڈ پرت ویفرز ، ناول میٹریل ویفرز |
الٹرا - کم پتہ لگانے کی حد:
روایتی طریقوں (جیسے TXRF) سے کہیں زیادہ حساسیت 1-2 آرڈر (جیسے TXRF) سے زیادہ حساسیت کے 1-2 آرڈرز کے ساتھ ، دھات کی آلودگی کی تعداد میں 1 × 10⁸ ایٹم/سینٹی میٹر (ایک معیاری سوئمنگ پول میں ریت کے ایک ہی دانے کو قطعی طور پر تلاش کرنے کے برابر) کا پتہ لگانے کے قابل ہے۔
جامع عنصری کوریج:
سیمیکمڈکٹر انڈسٹری میں تشویش کے کلیدی آلودگیوں کا احاطہ کرتے ہوئے لتیم (لی) سے لے کر یورینیم (یو) تک 70 سے زیادہ عناصر کے بیک وقت تجزیہ کی حمایت کرتا ہے۔
غیر - تباہ کن جانچ:
کیمیائی بخارات کی اینچنگ کے ذریعہ مکینیکل پیسنے کے ذریعہ متعارف کروانے سے آلودگی سے پرہیز کرتا ہے ، جس سے ٹیسٹ کے نتائج کی درستگی کو یقینی بنایا جاتا ہے۔
لچکدار نمونے لینے:
نمونے لینے کے نمونے لینے کے طریقوں جیسے مکمل اسکیننگ ، علاقائی اسکیننگ ، اور کنڈولر اسکیننگ ، مختلف عمل کی ضروریات کو اپنانے کی حمایت کرتا ہے۔
مضبوط اینٹی - مداخلت کی صلاحیت:
آئی سی پی - ایم ایس/ایم ایس کا تصادم ری ایکشن سیل (سی آر سی) ٹکنالوجی بڑے پیمانے پر اسپیکٹومیٹری مداخلت کو ختم کرتی ہے ، جس میں ایک ہی بڑے پیمانے پر (جیسے ، ⁵²CR اور ⁴⁰AR¹C) کے ساتھ آاسوٹوپس کے درمیان درست طور پر فرق ہوتا ہے۔
وی پی ڈی سسٹم کی درخواستیں
خام مال کا معائنہ:
بنیادی مواد کی پاکیزگی کو یقینی بنانے کے لئے آمد کے وقت سلیکن ویفروں کے دھات کی ناپاک مواد کی جانچ کرنا۔
فرنٹ - اختتامی عمل کی نگرانی:
آلودگی پھیلانے سے بچنے کے ل ax آکسیکرن ، بازی ، اور اینچنگ جیسے عمل کے بعد ویفر سطح پر دھات کی آلودگی کی سطح کی نگرانی کرنا۔
آئن امپلانٹیشن تجزیہ:
آئن امپلانٹیشن کے عمل کے دوران پیش کی جانے والی دھات کی نجاست کا اندازہ کرنا اور ڈوپنگ یکسانیت کو بہتر بنانا۔
تیار شدہ مصنوعات کی جانچ:
پیداوار اور وشوسنییتا کو یقینی بنانے کے لئے حتمی مصنوع پر دھات کی آلودگی کا تجزیہ کرنا۔
وی پی ڈی سسٹم کی ٹکنالوجی
بخار - فیز سڑن:
ویفر کو سطح کے آکسائڈ پرت (جیسے SIO₂) کو گلنے کے لئے HF بخارات کے ماحول میں رکھا جاتا ہے ، جو دھات کے آلودگیوں (جیسے Fe ، Cu ، Na ، وغیرہ) کو بے نقاب اور جمع کرتا ہے۔
بوند بوند اسکیننگ:
اسکیننگ مائع کا ایک چھوٹا سا حجم (جیسے ایک پتلا ایسڈ حل) تحلیل شدہ دھات کے آلودگیوں کو جمع کرنے کے لئے ویفر سطح پر گھوما جاتا ہے ، جس سے ایک افزودہ حل بنتا ہے۔
بڑے پیمانے پر اسپیکٹومیٹری تجزیہ:
افزودہ حل ICP - MS (inductially جوڑے پلازما ماس اسپیکٹومیٹر) یا ICP - MS/MS (ٹینڈیم ماس اسپیکٹومیٹر) کو الٹرا - ٹریس میٹلز کے مقداری تجزیہ کے لئے منتقل کیا جاتا ہے۔
VPD سسٹم کا آپریٹنگ ماحولیات
کلین روم کلاس کی ضروریات:VPD - ICP - ایم ایس سسٹم کے لئے انتہائی صاف ماحول کی ضرورت ہوتی ہے ، عام طور پر کلاس 100 یا لوکلائزڈ کلاس 10 الٹرا - صاف ماحول میں کام کرتا ہے۔ اگر ماحولیاتی صفائی ناکافی ہے (جیسے ، کلاس 1000 یا کلاس 10000 کلین روم) تو ، ٹیسٹ کے نتائج ہلکے دھات کے ذرات جیسے سوڈیم ، میگنیشیم ، اور ہوا میں کیلشیم سے آسانی سے متاثر ہوتے ہیں ، جس کی وجہ سے پس منظر کی اقدار میں اضافہ ہوتا ہے اور پتہ لگانے کی حدود میں کمی ہوتی ہے۔
درجہ حرارت اور نمی کا انتظام:آپریٹنگ ماحول کو لازمی طور پر درجہ حرارت (22 ± 2 ڈگری) اور نمی (45 ٪ ± 5 ٪ RH) برقرار رکھنا چاہئے تاکہ نمی یا ذراتی مادے کو ویفر سطح پر جذب کرنے سے روکا جاسکے ، جس سے گیس - مرحلے کی سڑن کی کارکردگی کو متاثر کرتی ہے۔ مثال کے طور پر ، اعلی نمی HF بخارات کی ناہموار گاڑھاپن کا باعث بن سکتی ہے ، جس کے نتیجے میں آکسائڈ پرت کا نامکمل گلنا ہوتا ہے۔
نمونہ پری - VPD سسٹم کے علاج کی وضاحتیں
وافر کی صفائی اور پری - علاج:
سطح نامیاتی مادے اور دھات کے ذرات کو دور کرنے کے لئے ویفرز کو معیاری ایس سی 1 (امونیا + ہائیڈروجن پیرو آکسائیڈ + الٹرا پیور واٹر) اور ایس سی 2 (ہائیڈروکلورک ایسڈ + ہائیڈروجن پیرو آکسائیڈ + الٹرا پیور واٹر) سے گزرنا چاہئے۔
صفائی کے بعد ، ویفرز کو الٹرا پیور پانی سے تین بار کللایا جانا چاہئے ، فوری طور پر نائٹروجن گن کے ساتھ خشک کیا جانا چاہئے ، اور پھر ثانوی آلودگی سے بچنے کے لئے وی پی ڈی چیمبر میں منتقل کردیا گیا۔
وی پی ڈی چیمبر آپریشن کلیدی نکات:
HF بخارات کی نمائش کا وقت:اس کو ویفر آکسائڈ پرت کی موٹائی کے مطابق ایڈجسٹ کرنے کی ضرورت ہے (جیسے ، قدرتی آکسائڈ پرت تقریبا 0.25 این ایم ہے ، تھرمل آکسائڈ پرت 100 این ایم تک پہنچ سکتی ہے) ، عام طور پر 5-15 منٹ۔ ناکافی وقت نامکمل سڑن کا باعث بنے گا ، جبکہ ضرورت سے زیادہ وقت سلیکن سبسٹریٹ کو ختم کرسکتا ہے۔
اسکیننگ حل سلیکشن:اس کی اعلی دھات کی تحلیل کی شرح اور کم پس منظر کی قیمت کی وجہ سے 1 ٪ کمزور نائٹرک ایسڈ حل کی سفارش کی جاتی ہے۔ مداخلت کو روکنے کے لئے سوڈیم اور پوٹاشیم پر مشتمل ریجنٹس سے گریز کیا جانا چاہئے۔
سوالات
چین میں ایک انتہائی پیشہ ور پیمائش اور تجزیہ سازوسامان مینوفیکچررز اور سپلائرز میں سے ایک کے طور پر ، ہم معیاری مصنوعات اور اچھی قیمت کے ذریعہ نمایاں ہیں۔ براہ کرم ہماری فیکٹری سے اپنی مرضی کے مطابق پیمائش اور تجزیہ کے سامان خریدنے کے لئے یقین دہانی کرائیں۔ کوٹیشن اور پرائس لسٹ کے لئے ، اب ہم سے رابطہ کریں۔
